集萃印花網
您的位置：集萃印花網→印花技術→印后處理→詳細內容
【字體:大 中 小】      
新型抗皺整理
集萃印花網  2009-06-01 00:00:00

    【集萃網觀察】最近，國外將具有碳硅多面體結構的化合物(Poss)引入到聚氨酯體系中，形成了新的納米復合材料，表現出一系列新的性能。將類似Poss結構的化合物引入到樹脂中，在形態(tài)記憶整理方面具有優(yōu)良的性能，尤其對免燙整理中避免強力降低具有顯著效果。

    將籠狀化合物引入到氟碳聚合物高分子上，形成帶籠狀結構的氟碳聚合物體系，由于籠狀結構內部可以捕捉帶有陰離子的化合物，因此對染料具有優(yōu)良絡合性，將籠狀化合物與染料混合能很好地限制染料的上染，尤其是在精細印花過程中，具有良好的防沾色效應。

    國外推出的納米材料Perfin 03產品也是類似的化合物，從免燙效果看，加入Perfin 03后，耐久壓燙性能、強力、甲醛釋放量都得到理想的結果．

    來源: 印染在線

  上一篇：織物的防水透濕整理
  下一篇：印后水洗與印花效果的關系如何?
更多相關文章
·印花產品特殊性的后處理 [06-10]
·印后燙金加工產品質量檢查有哪些？ [08-30]
·印制花紋與后處理 [08-21]
·地色印花不勻可采取的解決方法 [08-12]
最新評論

該文章暫時沒有評論！

發(fā)表評論
歡迎您：
評價： 中立     好評     差評
表情： 調皮   大哭   鼓掌   發(fā)怒   流汗   驚訝   吐   撇嘴   齜牙   抓狂
       難過   疑問   白眼   偷笑   咒罵   暈   可愛   可憐   鄙視   骷髏
請自覺遵守互聯網的相關政策法規(guī),嚴禁發(fā)布色情、暴力、互動的言論.
精彩圖集

最新技術文章

流行趨勢

印花圖案下載

求購信息

供應信息

點擊排行